
氮化硅
存储条件: 英文名:Silicon nitride |
CAS号:12033-89-5 产品别名:四氮化三硅; 四氮化三硅 ; 氧化镁粘结型氮化硅溅射靶; 氮化硅粉末; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MSiliconnitridemeshlightgraypowder; trisilicon tetranitride; Siliconnitridepowderprimarilyphase; Silicon (IV) nitride show |
存储条件: 英文名:Silicon nitride |
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CAS号:12033-89-5 产品别名:四氮化三硅; 四氮化三硅 ; 氧化镁粘结型氮化硅溅射靶; 氮化硅粉末; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MSiliconnitridemeshlightgraypowder; trisilicon tetranitride; Siliconnitridepowderprimarilyphase; Silicon (IV) nitride show |
英文名:Silicon nitride
存储条件:
CAS号:12033-89-5
产品别名:四氮化三硅; 四氮化三硅 ; 氧化镁粘结型氮化硅溅射靶; 氮化硅粉末; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MSiliconnitridemeshlightgraypowder; trisilicon tetranitride; Siliconnitridepowderprimarilyphase; Silicon (IV) nitride
- 介绍: 有α-和β-两种晶体。溶于氢氟酸。不溶于水。为共价键化合物,结合非常稳定。在空气中被加热至1450~1550℃时仍稳定。强度高。硬度大。硅粉在氮气氛中于高温下制得。也可由卤化硅与氨气经二氧化碳气激光束照射,生成无定形氮化硅,再在1450℃电炉、氮气氛中加热制得高纯度氮化硅粉末。
- 熔点: 1900 ℃
- 储存条件: RT
- 外观: 米白色晶状体
- 用途: 主要用作功能陶瓷材料原料,非铁金属的耐熔材料,飞机引擎,燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层以及研磨、切削、电炉等的材料。
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